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真空氫氣爐

來源： | 發(fā)布時(shí)間：2021-10-30 |

真空氫氣爐設(shè)計(jì)原理

真空氫氣爐主要用于金屬及非金屬材料的真空氫氣還原，硬質(zhì)合金、陶瓷、粉末冶金材料的真空／氣氛高溫?zé)Y(jié)處理，軟磁材料的真空氫氣退火以及真空釬焊、真空高溫回火等工藝。設(shè)備設(shè)計(jì)溫度在1600℃以下（由客戶提供）。
VHS系列單室真空氣淬爐采用前開門裝料型式，由真空爐體、爐膽、真空系統(tǒng)、氫氣還原系統(tǒng)、快速充氣系統(tǒng)（氮?dú)猓L(fēng)冷系統(tǒng)、溫度和真空控制系統(tǒng)、加熱電源、水冷系統(tǒng)和爐外裝料車等部分組成。
優(yōu)點(diǎn)：本設(shè)備糅合了國(guó)際前進(jìn)技術(shù)，采用負(fù)壓脈沖充氫氣和恒壓流動(dòng)充氫氣燒結(jié)的新方法，達(dá)到即節(jié)約氣源又使材料充分還原提純的目的，同時(shí)又使設(shè)備具有突出的安全性能。

真空氫氣爐技術(shù)參數(shù)

最高爐溫：1600℃          爐溫均勻性：<±5℃，   極限真空度：10-1／10-4Pa可選
壓升率： 0.65Pa／h，       爐膽：石墨／鉬可選